现对衬底一定深度的刻蚀。
而曝光宽容度，南山化学一上来就能做到跟JSR差不多的水平，也是非常不容易的。
这个指标有什么意义呢？
光刻时使用的曝光剂量偏离了最佳曝光剂量，仍能获得较好的图形，说明这款光刻胶具有较大的曝光宽容度。
正常情况下，光刻胶拥有一个最佳的曝光剂量，在光刻时，应该使整个晶圆包表面的曝光剂量一致，且尽可能接近最佳曝光剂量。
但是实际生产过程中，由于受外界环境的影响必然会有剂量的偏差。
曝光宽容度大的胶受曝光能量浮动或不均匀的影响较小，更适合生产需求。
所以这个指标好，对于南山半导体来说是很有意义的。
要不然你的光刻胶对工艺的要求很高的话，就会导致良品率变低，生产成本变高。
“这么说来，我们的EUV光刻胶生产出来之后，立马就可以开始取代JSR等厂家的同类产品了？”
这个问题是曹阳最关注的问题。
毕竟作为老板，肯定是要看重结果的。
在结果好的情况下，再去关注过程。
否则的话没有好结果，什么都是没有意义的。
“是的，其他的指标，不管是热流动性还是膨胀性能，还是粘度和保质期都是不比人家要差。”
“到时候我们可以形成全系列的芯片生产用光刻胶的生产，让进口光刻胶慢慢的退出华夏市场。”
“下一步甚至还可以进一步的开发液晶显示屏用光刻胶等其他类型的光刻胶，让我们的生产线的产能可以充分的利用起来。”
不少产品华夏不是一点生产能力都没有，而是没有足够的订单或者市场很小的话，那么就没有经济性。
比如一部分光刻胶，其实之前就有高校或者研究所在实验室里头能够生产出来。
但是不良率比较高，并且大规模生产的话需要投资专门的设备。
而这些设备的价格不便宜。
在没有确定自己的光刻胶可以大规模的销售之前，很多公司都是不敢去投资的。
更加不用说这些高校或者科研院所本来就缺钱。
每年申请下来的经费能够把论文给写出来就算是不错了。
哪里还有那么多的资金给你搞产业化？
毕竟，化学材料跟机械不一样。
你是好是坏，有的时候没有那么的直观。
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